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08/12/2009 – Defesa de dissertação de mestrado.

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Defesa de Tese: INVESTIGAÇÃO INTERFEROMÉTRICA DA REAÇÃO HF – SÍLICA (SIO2) EM PRESENÇA DE CAMPOS ELÉTRICOS


Aluno: Ruy Batista Santiago Neto

Orientador: Bernhard Lesche

Local/Data: Dia 08/12/2009, às 14:00 horas na sala 3505-B do Instituto de Ciências Exatas/UFJF.